一、利用低压等离子体辉光放电技术在350~450℃之间对奥氏体不锈钢后卡进行渗氮表面强化,在压强100~150KPa,处理60~100分钟即可得到厚度10~30 um左右的高硬度的氮过饱和奥氏体固溶体强化层.采用X射线衍射、电子探针及俄歇谱仪等对渗层进行结构分析表明,在处理温度低于450℃时,渗层为单相氮过饱和奥氏体固溶体层,显微硬度达到IOOOHV,与原基体材料相比,耐磨性提高了2~3倍。
二、利用低压等离子体辉光放电技术在350~450℃之间对奥氏体不锈钢后卡进行快速渗碳表面强化,在压强100~150KPa,处理60~100分钟即可得到厚度10~30 u m左右的高硬度的碳过饱和奥氏体固溶体强化层.采用X射线衍射、电子探针及俄歇谱仪等对渗层进行结构分析表明,在处理温度低于450℃时,渗层为单相碳过饱和奥氏体固溶体层,显微硬度达到900HV,与原基体材料相比,耐磨性提高,抗咬合性能得到提高。
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